10조원 규모 추정…‘반도체2030’ 달성 전략

▲ 평택 캠퍼스 항공사진 (사진=삼성전자)

 

[스페셜경제=홍찬영 기자]삼성전자가 평택에 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 파운드리(반도체 제조위탁) 생산 시설 구축에 나서는 등 ‘반도체 비전 2030’ 목표에 발맞춰 가고 있다.

삼성전자는 경기도 평택캠퍼스에 파운드리 생산 시설을 구축한다고 21일 밝혔다. 작년 4월 발표한 ‘반도체 비전 2030’ 관련 후속 조치의 일환이다.

반도체 2030은 시스템 반도체 분야에서 2030년까지 세계 1위에 오른다는 삼성전자의 목표다.

삼성전자는 이달 평택 파운드리 생산시설은 2021년 하반기부터 본격 가동할 계획이다. 투자규모는 정확히 알려지지 않았지만 10조원대로 추정됐다.

삼성전자는 2019년 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후, 2020년 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해 왔다. 여기에 2021년 평택 라인이 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모는 상승 곡선을 그릴 것으로 전망된다. 

 

▲ 지난18일, 중국 시안반도체 공장을 방문해 현장점검을 하고 있는 이재용 부회장 (사진=뉴시스)

 

이날 이재용 삼성전자 부회장은 평택 EUV 파운드리 라인 공사 착수를 재가하며 “어려울 때일수록 미래를 위한 투자를 멈춰서는 안된다”면서 경영진들에게 위기 속에서의 혁신을 주문했다.

코로나19 여파에 따라 전산업의 경기가 불확실해졌지만 위기 속에서도 돌파구를 찾은 전례를 볼 때, 현 상황 역시 헤쳐나갈 수 있다는 확신을 실어준 것으로 보인다.

앞서 이 부회장은 낸드플래시가 주력인 중국 시안반도체 공장을 방문해 현장을 점검한 바 있다. 그 뒤를 이어 이번에도 반도체 사업의 진보를 위한 작업을 지속하고 있는 것이다.

현재 시스템반도체 위탁생산업체인 파운드리 시장에서의 1위 기업은 TSMC이다. 삼성전자는 2위지만 TSMC와의 시장 점유율 격차는 크다. 삼성전자가 이번에 대규모 투자계획을 발표함에 따라 양사간 격차가 좁혀질 가능성이 제기되고 있다.

정은승 DS부문 파운드리사업부 사장은 “앞으로 5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것”이라며 “전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것”이라고 말했다.

 

스페셜경제 / 홍찬영 기자 home217@speconomy.com 

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